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[11月21日]讲座:溅射薄膜沉积与离子束抛光-技术与设备
发布时间:2010-11-18
讲座题目:溅射薄膜沉积与离子束抛光--技术与设备
主 讲 人:Dr. Marian Haff.(德国Roth&Rau MicroSystems公司)
主讲内容:离子束、等离子体技术;
离子束/磁控溅射镀膜技术与设备;
离子束抛光技术与设备
时 间:11月21日(周日),上午9:00-12:00
地 点:物理馆512会议室