[11月21日]讲座：溅射薄膜沉积与离子束抛光-技术与设备

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[11月21日]讲座：溅射薄膜沉积与离子束抛光-技术与设备

发布时间：2010-11-18

讲座题目：溅射薄膜沉积与离子束抛光--技术与设备

主讲人：Dr. Marian Haff.（德国Roth&Rau MicroSystems公司）

主讲内容：离子束、等离子体技术；

离子束/磁控溅射镀膜技术与设备；

离子束抛光技术与设备

时间：11月21日（周日），上午9:00-12:00

地点：物理馆512会议室