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原子光刻实验系统

2024-06-20
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型号:自研

设备介绍:原子光刻系统主要由低温高压真空系统、激光稳频系统与光栅沉积系统组成。系统为原子光刻实验创造无气体或低气体压力环境,基本消除了氧化、污染和杂质的问题。原子束冷却以及光栅沉积实验对激光频率以及环境稳定性的敏感程度极高,该系统为原子光刻实验提供了精确的环境控制。包括,可溯源至原子跃迁荧光频率的稳频技术,确保了光栅的质量、性能和稳定性。在较高真空度系统环境下,能够更好地控制光栅沉积过程、减少杂质引入和缺陷的形成,确保光栅的高质量和一致性。