Kaufman离子源

型号：KDC40-AJA-U

设备介绍：KDC40是一款小型且经济高效的直流栅格离子源产品。它是对流行的3cm Kaufman源的全新设计和升级，具有更大的网格图案，更坚固，并且能够配备自对准三网格离子光学器件。 Kaufman离子源集成在AJA磁控溅射仪的大腔内部，我们实验室主要用于Ar⁺刻蚀薄膜，通过控制刻蚀时间，可以有选择地将不需要的薄膜层减薄或者完全清除。

技术指标：KDC40可以执行所有典型的离子束工艺，包括原位预清洗、离子束表面改性、离子束辅助沉积、离子束溅射沉积、离子束蚀刻和直接沉积。KDC40的多功能性证明了它在任何涉及薄膜沉积和等离子蚀刻的设备制造工艺中的重要地位。标准配置下，典型的离子能量范围为100至1200 eV，而离子电流可超过120 mA。