薄膜生长及刻蚀多功能仪

型号：ORION-8-UHV

设备介绍：本实验室使用的是美国AJA International公司ATC ORION 8型号的磁控溅射生长设备，如下图所示。AJA磁控溅射生长设备是一款高性价比，集成度高，模块化的紧凑型物理气相沉积设备。磁控溅射生长技术(Magnetron Sputtering)采用等离子溅射沉积技术制备薄膜材料，是一种常见的PVD薄膜制备方法。磁控溅射法是基于传统二级溅射法改良而来，区别在于垂直于电场方向添加了磁场，有助于延长电子的运动轨迹，电离出更多的电子，碰撞出大量氩离子，进一步提升溅射速率。

技术指标：1) 沉积速率快且稳定，基片或衬底升温低，对薄膜损害小；2) 靶材材料包容性强，磁控溅射可用靶材有：导体(Pt，Co，Ta等)，半导体(GaN，InP等)以及绝缘体(MgO，SiO₂，SiN 等)。3) 制备面积大，厚度均匀，生产工艺可控，重复性好，有利于实现工业化大规模生产。