无掩膜板紫外光刻机（手动版）

型号：ATS-07-UV litho(E)

设备介绍：光刻是将掩模版上的图形转移到涂有光致抗蚀剂（或称光刻胶）的硅片上，通过一系列生产步骤将硅片表面薄膜的特定部分除去的一种图形转移技术。光刻技术是借用照相技术、平板印刷技术的基础上发展起来的半导体关键工艺技术。该无掩模板紫外光刻机由苏州赫智科技公司生产，是采用高精度DMD芯片直接将需要的图案投影在样品上，加工效率远优于激光直写系统。可接受直径为3 mm样品，直至6英寸标准的wafer。

技术指标：1）光刻线宽可达0.6微米；2）光刻图案可实时编辑；3）可实现精准套刻；4）自动聚焦和相机对准；5）步进式曝光，超大面积拼接；6）灰度曝光，优化光刻效果。